반응형 GAA2 반도체 공정 ETCH 장비를 경험해보지 않았습니다. 저도 공부하기 위해서 이 글을 작성하는 것이니 잘못된 부분이 있으면 알려주시면 감사하겠습니다. 출처 : RESEARCHAGATE.NET 개요 주요 구성 요소 항목 역할 비고 펌프(PUMP) FILM을 식각하기 위한 고진공 상태를 만들고 유지하는 기능 RF GENERATOR PROCESS CHAMBER 내에 주입된 GAS에 POWER를 인가하여 PLASMA를 형성하여 주는 SOURCE CHILLER ETCHING 도중에 발생하는 열을 냉각시켜 FILM 식각의 균일도 및 DAMAGE를 감소시키는 기능 HEAT CYCLE 방지 PROCESS CHAMBER 일반적으로 FILM 식각이 행해지는 반응실로 이곳에는 일정 압력이 유지되고, PLASMA에 의한 GAS들의 반응이 이.. 2023. 5. 4. 반도체 공정 ETCH 장비를 경험해보지 않았습니다. 저도 공부하기 위해서 이 글을 작성하는 것이니 잘못된 부분이 있으면 알려주시면 감사하겠습니다. 출처 : RESEARCHAGATE.NET 개요 주요 구성 요소 항목 역할 비고 펌프(PUMP) FILM을 식각하기 위한 고진공 상태를 만들고 유지하는 기능 RF GENERATOR PROCESS CHAMBER 내에 주입된 GAS에 POWER를 인가하여 PLASMA를 형성하여 주는 SOURCE CHILLER ETCHING 도중에 발생하는 열을 냉각시켜 FILM 식각의 균일도 및 DAMAGE를 감소시키는 기능 HEAT CYCLE 방지 PROCESS CHAMBER 일반적으로 FILM 식각이 행해지는 반응실로 이곳에는 일정 압력이 유지되고, PLASMA에 의한 GAS들의 반응이 이.. 2023. 5. 4. 이전 1 다음 반응형
